特許

J-GLOBAL ID：200903015461475860

被膜形成用組成物およびそれから形成される被膜

発明者： 飯田 啓之 ,  小針 英也
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-305978
公開番号（公開出願番号）：特開2008-120911
出願日： 2006年11月10日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：

【課題】誘電率を低くするとともに、機械的強度および電気特性を向上することができるシリカ系被膜を形成し得る被膜形成用組成物を提供することを目的としている。【解決手段】本発明に係る被膜形成用組成物は、一般式(1)で表されるアルコキシシラン化合物とを含むシラン化合物を加水分解し、縮合反応して得られるシロキサンポリマーを含有する被膜形成用組成物であって、上記シラン化合物中における一般式(1)で表されるアルコキシシラン化合物のモル分率が、0.5以上であることを特徴としている。 R1 n Si(OR2 )4-n ・・・(1) (式中、R1 は炭素数1〜20の有機基を示し、R2 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、nは1または2を示す)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式(1) R1 n Si(OR2 )4-n ・・・(1) (式中、R1 は炭素数1〜20の有機基を示し、R2 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、nは1または2を示す) で表されるアルコキシシラン化合物を含むシラン化合物を加水分解し、縮合反応して得られるシロキサンポリマーを含有する被膜形成用組成物であって、 上記シラン化合物中における一般式(1)で表されるアルコキシシラン化合物のモル分率が、0.5以上であることを特徴とする被膜形成用組成物。

IPC (3件)：

C08L 83/04 ,  C08K 3/00 ,  H01L 21/312

FI (3件)：

C08L83/04 ,  C08K3/00 ,  H01L21/312 C

Fターム (16件)：

4J002CH022 ,  4J002CP051 ,  4J002DD056 ,  4J002DE056 ,  4J002DE226 ,  4J002DF026 ,  4J002DG046 ,  4J002FD121 ,  4J002FD126 ,  4J002GQ01 ,  4J002GQ05 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜の製造方法及び半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-399807   出願人：日立化成工業株式会社
• ランプ着脱操作具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-155460   出願人：松下電工株式会社