ガス評価装置及びガス評価方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木内光春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-053174
公開番号（公開出願番号）：特開平11-316178
出願日： 1999年03月01日
公開日（公表日）： 1999年11月16日
要約：

【要約】【課題】被評価物の加工が不要であり、低コストで、実際のガスの発生状況と同様の状況で被評価物からの発生ガスを正確に評価することができるガス評価装置及びガス評価方法を提供する。【解決手段】チャンバ1を、外筒部2と内筒部3の二重管で構成する。外筒部2及び内筒部3は下端部が開口しており、内筒部3の下端部は外筒部2の下端部より内側に位置している。建材4の表面の発生ガスを評価する際には、チャンバ1を直接建材4の表面に配置する。外筒部2の上部側面には清浄空気を供給する給気管6、内筒部3の上部には内筒部3の空気を排気する排気管8が取り付けられており、それぞれ給気バルブ5及び排気バルブ7によって流量が調整される。

請求項（抜粋）：

被評価物の表面に発生するガスを捕集して評価するガス評価装置において、一端が開口し、内部にガスの捕集室が形成されたチャンバと、前記チャンバ内に清浄空気を供給する給気手段と、前記捕集室内の空気を排気する排気手段と、前記給気手段によって供給される清浄空気の流量と前記排気手段によって排気される空気の流量とを調整する流量手段とを具備することを特徴とするガス評価装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

シリコンウエハの加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-195430 出願人：大成建設株式会社
特開昭59-088141

前のページに戻る