特許
J-GLOBAL ID：200903015479637582
半導体基板の基板洗浄装置及び洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-361809
公開番号（公開出願番号）：特開2003-163196
出願日： 2001年11月28日
公開日（公表日）： 2003年06月06日
要約：
【要約】【課題】 基板を回転させ、筒状の洗浄ブラシを基板の被洗浄面に当てながらスクラブ洗浄を行う洗浄装置で、従来の洗浄ブラシでは基板のベベル部、周縁部分に洗浄ブラシが接触しないため、研磨剤等のパーティクルがベベル、周縁部分に残留してしまう。これを解消する洗浄方法及び基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 筒状の洗浄ブラシを軸まわりで回転させながら、表面と基板11の被洗浄面を擦りあわせてスクラブ洗浄するスクラブ洗浄ブラシ2a、2bと、基板周縁部に接触し、周縁部を洗浄する周縁部洗浄部材3が設けられていることを特徴とする。スクラブ洗浄ブラシ2a、2bは、ブラシシャフト5の両端をを太くすることにより、基板11のベベル部6にならう形状を有し、基板11のベベル部6を洗浄することを特徴とする。周縁部洗浄部材3は基板11周縁に沿った部分に取り付けられており、基板11の回転と共に回転、上下運動しながら、基板11の周縁部を洗浄することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
筒状の洗浄ブラシを軸まわりで回転させながら、表面と基板の被洗浄面を擦りあわせてスクラブ洗浄するスクラブ洗浄ブラシと、基板周縁部に接触し、周縁部を洗浄する周縁部洗浄部材が設けられていることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 644
, H01L 21/304 643
, H01L 21/304
H01L 21/304 644 C
, H01L 21/304 643 A
, H01L 21/304 644 B
, H01L 21/304 644 G
