特許

J-GLOBAL ID：200903015479869165

電子ビーム描画装置

発明者： 下村 尚治 ,  小笠原 宗博 ,  吉武 秀介 ,  大木 健司 ,  東條 徹 ,  高松 潤
出願人/特許権者： 株式会社東芝 ,  東芝機械株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-050701
公開番号（公開出願番号）：特開平11-251223
出願日： 1998年03月03日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：

【要約】【課題】 対物レンズと試料との間のスペースを狭くすることなく、薄板を重ねた構造の反射防止機構を簡易に取り付ける。【解決手段】 電子ビームの照射により試料表面から放出される反射電子或いは二次電子の試料側への再反射を防止するために、試料と対向する対物レンズ下面に反射防止機構を設けた電子ビーム描画装置において、反射防止機構は、複数の開口を持つ薄板1を複数枚重ね、各々の開口を接続して反射電子或いは二次電子の放出を抑えるための孔が形成されるように構成され、反射防止機構を対物レンズ下面に固定するためのネジの頭部が反射防止機構の下面よりも対物レンズ側に沈む構造となっている。

請求項（抜粋）：

電子ビームの照射により試料表面から放出される反射電子或いは二次電子の試料側への再反射を防止するために、試料と対向する対物レンズ下部に反射防止機構を設けた電子ビーム描画装置において、前記反射防止機構は、複数の開口を持つ薄板を複数枚重ね、各々の開口を接続して反射電子或いは二次電子の放出を抑えるための孔が形成されるように構成され、且つ該反射防止機構を前記対物レンズ下部に固定するための固定部材の最下部が前記反射防止機構の下面よりも前記対物レンズ側に位置するように、該反射防止機構に凹部を設けてなることを特徴とする電子ビーム描画装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01J 37/252

FI (2件)：

H01L 21/30 541 B ,  H01J 37/252 B