特許
J-GLOBAL ID：200903015520302908
マルチビーム光源装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-178479
公開番号（公開出願番号）：特開平11-023988
出願日： 1997年07月03日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：
【要約】【課題】簡単な構成で経時的安定性に優れるマルビーム光源装置を実現すると共に、ビームスポットの間隔調整が容易に行えるようにすることを課題とする。【解決手段】本発明のマルチビーム光源装置は、複数の半導体レーザ101,102と、該半導体レーザと対で設けられ各々の光ビームを平行光束にする複数のコリメートレンズ104,105と、複数の半導体レーザとコリメートレンズとを主走査方向に配列してこれらを一体的に支持する支持部材103とを有する光源部を備え、上記半導体レーザ間隔Dとコリメートレンズ間隔dとにD/d>1なる関係があると共に、上記光源部を射出軸aを回転軸とした回転方向に位置決め可能に支持してなる構成とした。これにより、汎用の半導体レーザの組み合わせによっても環境変化に対してその相対位置が維持され、安定した光軸精度を保つことが可能な上、副走査方向のピッチが調節可能となる。
請求項（抜粋）：
複数の半導体レーザと、該半導体レーザと対で設けられ各々の光ビームを平行光束にする複数のコリメートレンズと、上記複数の半導体レーザと複数のコリメートレンズとを主走査方向に配列してこれらを一体的に支持する支持部材とを有する光源部を備え、上記半導体レーザ間隔Dとコリメートレンズ間隔dとにD/d>1なる関係があると共に、上記光源部を射出軸を回転軸とした回転方向に位置決め可能に支持してなることを特徴とするマルチビーム光源装置。
IPC (2件)：
G02B 26/10
, G02B 26/10 105
G02B 26/10 B
, G02B 26/10 105 Z
