特許

J-GLOBAL ID：200903015577461476

プラズマ処理装置

発明者： 瀬川 利規 ,  石橋 清隆 ,  野沢 俊久 ,  猿丸 正悟
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 本庄 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-265354
公開番号（公開出願番号）：特開2001-093881
出願日： 1999年09月20日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ発生空間とプラズマ処理空間とを分離しつつ連通させた従来のプラズマ処理装置では,同心円状に設けられたアノードの各吹き出し口に反応性ガスを供給するためにプラズマ発生空間を横切るリブ状のガス供給経路が必要であり,プラズマ発生空間からプラズマ処理空間に吹き出されるイオンFluxが遮られてしまう,熱膨張と収縮との繰り返しによってパーティクル発生源となってしまう,機械的な耐久性が劣る,といった種々の問題点があった。【解決手段】 プラズマ処理空間2に導入される反応性ガスを,プラズマ発生空間の上方に設けられたガス溜まり溝5からプラズマ発生チャンバ3内に設けられた供給管を介して各アノード4に設けられた供給口14に供給するように構成する。これにより,上記従来のプラズマ処理装置のようにプラズマ発生空間を横切って各アノードを接続するリブ状のガス供給経路を設ける必要がなく,上記のような問題点を解消できる。

請求項（抜粋）：

環状に形成されたプラズマ発生空間と,上記プラズマ発生空間近傍の壁面内に環状に埋設され,上記プラズマ発生空間に高周波電磁界を印加するアンテナと,上記プラズマ発生空間に隣接して連通可能に形成され,一対の電極で挟まれた平行平板型のプラズマ処理空間とを具備してなるプラズマ処理装置において,上記プラズマ処理空間に導入される反応性ガスが,上記プラズマ発生空間の上方から上記プラズマ発生空間の側壁内に設けられた供給管を介して上記プラズマ発生空間側壁の上記プラズマ処理空間側端部から上記プラズマ処理空間に供給されるように構成されてなることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 C

Fターム (11件)：

4K057DD01 ,  4K057DM02 ,  4K057DM07 ,  4K057DM37 ,  4K057DM39 ,  5F004AA16 ,  5F004BA06 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BC03 ,  5F004CA09

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-066136   出願人：株式会社エフオーアイ, 株式会社神戸製鋼所
• RFプラズマリアクタ用熱制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-304911   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド