特許

J-GLOBAL ID：200903063215736536

プラズマ発生装置

発明者： 奥村 裕 ,  野沢 俊久 ,  石橋 清隆 ,  徳村 哲夫
出願人/特許権者： 株式会社エフオーアイ ,  株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 佐藤 香
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-066136
公開番号（公開出願番号）：特開平11-251090
出願日： 1998年03月02日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：

【要約】【課題】良質のプラズマを効率よく供給するとともに均一に処理する。【解決手段】プラズマ発生空間22がプラズマ処理空間13に隣接し且つ連通しているプラズマ発生装置において、プラズマ発生空間22がプラズマ処理空間13との隣接面に沿って線状に延びているとともに、プラズマ発生空間22と並んで走る磁性部材25が傾斜している。また、プラズマ発生空間22がプラズマ処理空間13へ向けて拡幅している。これにより、磁性部材の加工性を損なうことなく磁性部材の磁力に基づくプラズマ流が方向性を持たせられるとともに、プラズマ発生空間からプラズマ処理空間への流出に際してプラズマが扇状・ラッパ状に拡がる。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理空間が形成された第1機構と、前記第1機構に取着して又はそれと一体的に設けられプラズマ発生空間が形成された第2機構とを具え、前記プラズマ発生空間が前記プラズマ処理空間に隣接し且つ連通しているプラズマ発生装置において、前記プラズマ発生空間が前記プラズマ処理空間との隣接面に沿って線状に延びており、かつ、前記プラズマ発生空間と並んで走る磁性部材が傾斜していることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (6件)：

H05H 1/46 A ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 G ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 誘導結合プラズマ・リアクタとその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-049888   出願人：モトローラ・インコーポレイテッド
• 高周波磁場励起処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-344666   出願人：日本電気株式会社
• 粒子線照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-292117   出願人：日新電機株式会社