特許

J-GLOBAL ID：200903015666096471

剥離剤組成物

発明者： 名越 英二 ,  樫原 栄二 ,  代田 真美 ,  北澤 宏造
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-186617
公開番号（公開出願番号）：特開平11-311867
出願日： 1998年07月01日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】作業性や安全性に優れるのみならず、高エネルギー処理を受けて硬化又は化学変質したレジストでも容易にかつ短時間で剥離し得るレジスト用剥離剤組成物を提供すること。【解決手段】(A)窒素原子を1〜4個有するアミン化合物、一般式(I):【化1】(式中、R1 、R2 、R3 及びR4 はそれぞれ独立して炭素数1〜10の炭化水素基又はヒドロキシアルキル基、X- は陰イオンを示す)で表される4級アンモニウム塩及び酸からなる群より選ばれた1種以上の分子量17〜300の化合物、(B)分子量301〜5000の非イオン性界面活性剤、並びに(C)水を含有するレジスト用剥離剤組成物。

請求項（抜粋）：

(A)窒素原子を1〜4個有するアミン化合物、一般式(I):【化1】(式中、R1 、R2 、R3 及びR4 はそれぞれ独立して炭素数1〜10の炭化水素基又はヒドロキシアルキル基、X- は陰イオンを示す)で表される4級アンモニウム塩及び酸からなる群より選ばれた1種以上の分子量17〜300の化合物、(B)分子量301〜5000の非イオン性界面活性剤、並びに(C)水を含有するレジスト用剥離剤組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/308

FI (3件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/308 E ,  H01L 21/30 572 B

引用特許：

出願人引用 (3件)

• フォトレジスト剥離剤組成物及び剥離方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-205876   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• 特開平3-205465
  
• 特開昭63-110454
  

審査官引用 (3件)

• フォトレジスト剥離剤組成物及び剥離方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-205876   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• 特開平3-205465
  
• 特開昭63-110454