特許

J-GLOBAL ID：200903015698297924

ガラス基板の食刻装置

発明者： ジェエ ギュ チョン
出願人/特許権者： エルジー フィリップス エルシーディー カンパニー リミテッド
代理人 (1件)： 園田 吉隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254246
公開番号（公開出願番号）：特開2000-128578
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：

【要約】【課題】 厚さを薄く、表面を均一にガラス基板を食刻する装置を提供する。【解決手段】 容器1と、容器1内に設けられ複数の孔を有する多孔板4と、多孔板4の下に設けられ多孔板4へ気泡を提供するバブル板3と、食刻液排出管18に連結され食刻液を浄化するフィルター9と、フィルター9に連結され浄化された食刻液を貯蔵するバッファータンク12と、バッファータンク12に連結されバッファータンク12から提供される食刻液と新しい食刻液混合物とを混合する化合物混合タンク7と、化合物混合タンク7と食刻液供給管8とに連結され、化合物混合タンク7内の食刻液を食刻液供給管8を通じて容器1内へ供給すべく圧力を提供するポンプ17とで、構成した食刻装置を提供する。

請求項（抜粋）：

容器と、該容器内に設けられ、複数の孔を有する多孔板と、該多孔板の下に設けられて該多孔板へ気泡を提供するバブル板とを含んで構成されたガラス基板の食刻装置。

IPC (3件)：

C03C 15/00 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

C03C 15/00 C ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/306 J

引用特許：

審査官引用 (2件)

• エッチング処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-202017   出願人：鶴見曹達株式会社
• エッチング液管理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-326298   出願人：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社