特許
J-GLOBAL ID：200903015706597266
薄膜磁気ヘッド、磁気ヘッド装置及び磁気ディスク装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿部 美次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-259457
公開番号（公開出願番号）：特開2001-084525
出願日： 1999年09月13日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】 超微小で、かつ、絶縁耐圧の高いシールド間ギャップ長を有する薄膜磁気ヘッドを提供する。【解決手段】 絶縁膜32、33は、第1のシールド膜31及び第2のシールド膜21の間隔を埋めている。読み取り素子3は、絶縁膜32、33の内部に備えられている。絶縁膜32は、金属膜を酸化または窒化して得られた絶縁領域322を含む。絶縁領域322は、第1のシールド膜31及び第2のシールド膜21の少なくとも一方と、読み取り素子3との間に存在する。
請求項（抜粋）：
第1のシールド膜と、第2のシールド膜と、絶縁膜と、少なくとも1つの読み取り素子とを含む薄膜磁気ヘッドであって、前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜は、互いに間隔を隔てて配置されており、前記絶縁膜は、前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の前記間隔を埋めており、前記読み取り素子は、前記絶縁膜の内部に備えられており、前記絶縁膜は、金属膜を酸化または窒化して得られた絶縁領域を含み、前記絶縁領域は、前記第1のシールド膜及び前記第2のシールド膜の少なくとも一方と、前記読み取り素子との間に存在する薄膜磁気ヘッド。
Fターム (4件)：
5D034BA02
, 5D034BA03
, 5D034BA15
, 5D034BB08
