特許
J-GLOBAL ID：200903068219373375
磁気抵抗効果型ヘッドおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-007939
公開番号（公開出願番号）：特開平9-198619
出願日： 1996年01月22日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：
【要約】【課題】 上下のシールド膜間に絶縁膜を介してMR素子を形成するシールド型MRヘッドでは、高密度化の要求に伴って絶縁膜を薄くするとMR素子とシールド膜との間の絶縁性が劣化され、ショートのおそれが生じる。【解決手段】 基板21、下シールド膜23、下ギャップ絶縁膜25、MR素子26、上ギャップ絶縁膜30、上シールド膜31を積層してMR素子26が形成されており、下シールド膜23とMR素子26との間、およびMR素子26と上シールド膜31との間の少なくとも一方にアルミニウムを酸化して得られるアルミナ膜のように、結晶が緻密で欠陥の少ない高信頼性の絶縁膜24,29が形成される。磁気記録再生装置における高密度化に伴って上下のシールド膜とMR素子との間の間隔が微少化される場合でも、シールド膜とMR素子との間の絶縁性を向上し、両者のショートを確実に防止することが可能となる。
請求項（抜粋）：
スライダとなる基板上に下シールド膜、下ギャップ絶縁膜、磁気抵抗効果素子、上ギャップ絶縁膜、上シールド膜が積層された構成の磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、前記下シールド膜と磁気抵抗効果素子との間、および前記磁気抵抗効果素子と上シールド膜との間の少なくとも一方に高信頼性の絶縁膜が形成されることを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッド。
引用特許：
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