特許

J-GLOBAL ID：200903015741630411

デバイス検査

発明者： アリー ジェフレイ デン ボーフ ,  フランク ボルネブローク ,  ヒューゴ オウガスティヌス ヨセフ クラメール ,  マーシー デューサ ,  リカルド ヨハンネス フランシスカス ファン ハレン ,  アントイネ ガストン マリー キールス ,  ジャスティン ロイド クリューザー ,  マウリトス ファン デル シャール ,  パウル ヤックス ファン ウィユネン ,  エヴェルハルデュス コルネリス モス ,  ピエテル ウィレム ヘルマン ヤゲール ,  ハンス ファン デル ラーン ,  パウル フランク ルールマン
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-366656
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279405
出願日： 2003年09月19日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：

【課題】従来の欠点を克服するデバイス検査方法を提供する。【解決手段】方法は、検査すべきデバイスに非対称マーカを設けることを含み、マーカの非対称性の形態は、検査すべきパラメータに依存し、さらに、マーカに光を配向することと、特定の波長または回折角度の回折光を検出することにより、マーカの位置の第1測定値を取得することと、異なる波長または回折角度の回折光を検出することにより、マーカの位置の第2測定値を取得することと、マーカの非対称性の程度を示すシフトを決定するため、第1、第2測定位置を比較することとを含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

デバイス検査の方法で、検査すべきデバイスに非対称マーカを設けることを含み、マーカの非対称性の形態は、検査すべきパラメータに依存し、さらにマーカに光を配向することと、特定の波長または回折角度の回折光の検出により、マーカの位置の第1測定値を取得することと、異なる波長または回折角度の回折光の検出により、マーカの位置の第2測定値を取得することと、マーカの非対称性の程度を示すシフトを決定するため、第1および第2測定位置を比較することとを含む方法。

IPC (2件)：

G01B11/00 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G01B11/00 G ,  H01L21/30 502V ,  H01L21/30 514E

Fターム (24件)：

2F065AA01 ,  2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065CC20 ,  2F065DD04 ,  2F065DD06 ,  2F065FF48 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ18 ,  2F065RR02 ,  2F065RR07 ,  2F065UU05 ,  2F065UU08 ,  5F046AA18 ,  5F046BA03 ,  5F046EA07 ,  5F046EC05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• テストマーク、並びにそれを用いたフォーカス及び収差の測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-241480   出願人：株式会社東芝
• 特開平3-257303