空間光変調器の製造方法、空間光変調器用のセル壁の形成方法、空間光変調器、空間光変調器用のセル壁

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-182986
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084413
出願日： 1998年06月29日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】【課題】液晶空間光変調器のセル壁を形成する方法を提供する。【解決手段】セル壁は、基板を含み、基板上方に、共役二重結合を含むポリマーにより偏光子を形成する。基板に対して偏光子上方に配向層を形成する。製造中の条件は、偏光子の性能が過剰に劣化しない条件である。従って、内部偏光子を含み受容可能な性能を有する液晶装置を提供することが可能である。

請求項（抜粋）：

基板上方に共役二重結合を含むポリマーにより偏光子を形成する工程と、該基板に対して該偏光子上方に層を形成する工程とを含む、液晶空間光変調器のセル壁の形成方法。

IPC (2件)：

G02F 1/135 , G09F 9/30 317

FI (2件)：

G02F 1/135 , G09F 9/30 317

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平2-223901
特開平3-105315
特開昭63-158525

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