反射型アクティブ・マトリクス・ディスプレイ・パネル及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-336200
公開番号（公開出願番号）：特開平8-179377
出願日： 1994年12月22日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：

【要約】【目的】反射率を向上させた反射型アクティブ・マトリクス・ディスプレイ・パネルを提供する。【構成】 p型シリコン基板1にソース2及びドレイン3が形成され、ゲート絶縁膜6を介してゲート上にはゲート信号線4が設けられ、フィールド絶縁膜5及び層間絶縁膜7が形成されている。また、データ信号線8から供給される画像信号は、画素電極9により保持されている。そして、10は補助容量であり、11はパシベーション膜である。さらに、誘電体多層膜ミラー12、液晶配向膜13、液晶14、液晶配向膜13、透明対向電極15、ガラス基板16がこの順番に形成されている。このとき、パシベーション膜11をこれをエッチングするエッチャントを含む研磨材で研磨して鏡面加工することにより、パシベーション膜11上に蒸着される誘電体多層膜ミラー12を極めて平坦にして高反射率を得ることができる。

請求項（抜粋）：

基板上にマトリクス状に形成された半導体トランジスタと、この半導体トランジスタそれぞれに接続された画素電極と、この画素電極に前記半導体トランジスタを介して信号を印加するマトリクス配線とが表示画素エリアに形成され、この表示画素エリアの周囲に信号・走査駆動回路が設けられている反射型アクティブ・マトリクス・ディスプレイ・パネルの製造方法であって、前記画素電極上を含む基板全体に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜をエッチングするエッチャントを含む研磨材を用いて前記絶縁膜の表面を研磨して平坦化する工程と、前記絶縁膜上に反射層と液晶層とを形成する工程とからなることを特徴とする反射型アクティブ・マトリクス・ディスプレイ・パネルの製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1333 505 , H01L 29/786 , H01L 21/336

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開平3-211528
液晶表示素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-188254 出願人：アルプス電気株式会社

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