特許
J-GLOBAL ID:200903015860311502
EL素子およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
伊藤 洋二 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-341462
公開番号(公開出願番号):特開平10-308283
出願日: 1997年12月11日
公開日(公表日): 1998年11月17日
要約:
【要約】【課題】 温度変化に対し耐圧変化の少ない高耐圧のEL素子を提供する。【解決手段】 ガラス基板1上に第1電極2、第1絶縁層3、発光層4、第2絶縁層5、第2電極6を順次積層してなるEL素子において、第1絶縁層3、第2絶縁層5を、原子層エピタキシャル法(ALE法)を用いて、Al2 O3 層と、Baを添加した酸化チタン(TiOX :Ba)層を交互に積層したAl2 O3 /TiOX :Ba積層構造膜とした。
請求項(抜粋):
少なくとも一方が透明な一対の電極間に、絶縁層および発光層が配置されてなるEL素子において、前記絶縁層は、絶縁材料からなる第1の層と、酸化チタンを組成として含む第2の層を交互に積層した構造になっており、前記第2の層には、温度変化に対する比抵抗の変化特性を緩和する元素が添加されていることを特徴とするEL素子。
IPC (2件):
FI (2件):
引用特許:
審査官引用 (30件)
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特開平2-215081
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特開平2-215081
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特開昭63-045797
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特開昭63-045797
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特開平1-304693
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特開平1-304693
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特開平1-124998
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特開平1-124998
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特開平4-229989
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特開平4-229989
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特開昭58-206095
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特開昭58-206095
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薄膜エレクトロルミネッセンス素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-333882
出願人:株式会社リコー
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特開平1-270591
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特開平1-270591
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特開昭58-029880
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特開昭64-082487
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特開昭63-252392
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エレクトロルミネッセンス素子およびエレクトロルミネッセンス素子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-295856
出願人:日本電装株式会社
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エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-028448
出願人:日本電装株式会社
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特開平2-215081
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特開昭63-045797
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特開平1-304693
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特開平1-124998
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特開平4-229989
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特開昭58-206095
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特開平1-270591
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特開昭58-029880
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特開昭64-082487
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特開昭63-252392
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