分流プロセスおよびその装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川口義雄 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-583615
公開番号（公開出願番号）：特表2002-530187
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：

【要約】燃焼タービンからの排気などのプロセスガスから二酸化炭素などのガス成分を回収する回収プラントが、吸収器の上部にリーン溶剤126を用い、吸収器の下部にセミリーン溶剤172を用いる吸収器110を備える。再生器120がリッチ溶剤117からガス成分を抽出することにより、再生されたリーン溶剤126とセミリーン溶剤127を生成する。溶剤流量制御要素170が、吸収器の上部からのセミリッチ溶剤118の少なくとも一部を再生器からのセミリーン溶剤127と組み合わせて、混合溶剤171を形成し、冷却器112が混合溶剤を冷却した後、冷却された混合溶剤は吸収器110の底部に供給される。吸収器内に供給する前に混合溶剤を冷却することにより、排気ガスから二酸化炭素を除去するのに必要な熱エネルギーが低減される。

請求項（抜粋）：

プロセスガスからガス成分を回収する回収プラントであって、プロセスガスからガス成分を吸収するリーン溶剤およびセミリーン溶剤を用いることにより、リッチ溶剤、セミリッチ溶剤、およびリーンプロセスガスを生成する吸収器と、吸収器に流体結合され、リッチ溶剤からガス成分を抽出することによりリーン溶剤およびセミリーン溶剤を再生する再生器と、吸収器に流体結合され、セミリッチ溶剤の少なくとも一部とセミリーン溶剤の少なくとも一部を組み合わせて混合溶剤を形成する溶剤流量制御要素と、吸収器に流体結合され、混合溶剤を冷却する冷却器と、冷却された混合溶剤を吸収器内に供給する連結要素とを具備する回収プラント。

IPC (3件)：

B01D 53/14 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/62

FI (3件)：

B01D 53/14 C , B01D 53/34 135 Z , B01D 53/34 ZAB

Fターム (25件)：

4D002AA09 , 4D002AC01 , 4D002BA02 , 4D002BA12 , 4D002BA13 , 4D002CA07 , 4D002DA32 , 4D002EA08 , 4D002GA01 , 4D002GB02 , 4D002GB04 , 4D002GB11 , 4D020AA03 , 4D020BA16 , 4D020BA19 , 4D020BB04 , 4D020BC01 , 4D020CB08 , 4D020CC09 , 4D020CC10 , 4D020CC12 , 4D020DA03 , 4D020DB03 , 4D020DB04 , 4D020DB06

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平2-111414
特開平2-111414
特開平2-111414

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