特許

J-GLOBAL ID：200903015941117930

透明導電膜の製造方法

発明者： 平澤 洋 ,  吉田 誠 ,  鈴木 義雄 ,  岡田 智 ,  近藤 健一 ,  中村 奨
出願人/特許権者： スタンレー電気株式会社
代理人 (1件)： 丹羽 宏之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-083983
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273617
出願日： 1999年03月26日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】 透明電極として使用されるZnOの透明導電膜の作製に際して、成膜速度が速く、且つ抵抗率の低いZnO膜が得られるようにする。【解決手段】 真空チャンバー1内で、Arガスを導入して直流電源6により陽極4から陰極5へ向けてアーク放電によるプラズマ8を発生させ、イオンプレーティング法により基板3の表面にZnOの透明導電膜を成膜させる。その際、ZnOの焼結体7にGa2 O3 を1〜3重量%混入させて、イオンプレーティングを行う。

請求項（抜粋）：

アーク放電を用いたイオンプレーティング法によりGaを添加したZnOの透明導電膜を成膜させるようにしたことを特徴とする透明導電膜の製造方法。

IPC (5件)：

C23C 14/08 ,  C04B 35/64 ,  C23C 14/32 ,  H01B 13/00 503 ,  H01B 5/14

FI (6件)：

C23C 14/08 C ,  C23C 14/32 A ,  C23C 14/32 B ,  H01B 13/00 503 B ,  H01B 5/14 ,  C04B 35/64 Z

Fターム (12件)：

4K029BA49 ,  4K029BB07 ,  4K029BC09 ,  4K029CA03 ,  4K029DB05 ,  4K029DD06 ,  5G307FA01 ,  5G307FB01 ,  5G307FC03 ,  5G307FC10 ,  5G323BA02 ,  5G323BB06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-029216
  
• 透明導電膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-224673   出願人：旭硝子株式会社