特許
J-GLOBAL ID：200903015944747900

汚染状況監視方法及びその装置

発明者：
中谷 幸雄

中谷 幸雄 について

, 
竹瀬 大悟

竹瀬 大悟 について


出願人/特許権者：
株式会社片山化学工業研究所

株式会社片山化学工業研究所 について


代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-074027
公開番号（公開出願番号）：特開平10-267843
出願日： 1997年03月26日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：
【要約】【解決手段】 工業用水系又は工業廃水系の一部に、系内の汚染物質を付着し得る透明接触部材を設置し、該透明接触部材に光を照射してその光透過度を測定することにより、系内の汚染状況を監視することを特徴とする工業用水系又は工業廃水系の汚染状況監視方法を提供する。【効果】 工業用水系及び工業廃水系の汚染状況を迅速に、連続的かつ定量的に測定することができる。また、その汚染状況に基づいて、水処理薬剤を添加することにより、前記水系の汚染物質による障害を防止することができる。
請求項（抜粋）：
工業用水系又は工業廃水系の一部に、系内の汚染物質を付着し得る透明接触部材を設置し、該透明接触部材に光を照射してその光透過度を測定することにより、系内の汚染状況を監視することを特徴とする工業用水系又は工業廃水系の汚染状況監視方法。
IPC (9件)：
G01N 21/59 ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 532 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 5/00 610 ,  G01N 33/18
FI (13件)：
G01N 21/59 D ,  C02F 1/00 V ,  C02F 1/00 U ,  C02F 1/50 510 C ,  C02F 1/50 510 E ,  C02F 1/50 520 P ,  C02F 1/50 532 C ,  C02F 1/50 532 K ,  C02F 1/50 532 H ,  C02F 1/50 550 C ,  C02F 1/50 550 L ,  C02F 5/00 610 G ,  G01N 33/18 A
引用特許：
審査官引用 (4件)
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