特許
J-GLOBAL ID:200903015959707602

ポリシランの製造方法およびポリシラン

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-227954
公開番号(公開出願番号):特開平10-067859
出願日: 1996年08月29日
公開日(公表日): 1998年03月10日
要約:
【要約】【課題】 オルガノジヒドロシランを脱水素縮合し、重合度の高いポリシランを与える方法及びポリシランを提供する。【解決手段】 一般式(I)【化1】R1R2SiH2 (I)(式中、R1、R2は炭素数12以下の有機基を示す)で表されるジオルガノジヒドロシランを、有機基のみを配位子とする白金錯体触媒の存在下に反応させることを特徴とする、一般式(II)【化2】(式中、R1、R2は前記と同じ意味を有し、nは10以上の数を示す)で表されるポリシランの製造方法。一般式(IV)【化4】(式中、R3は炭素数12以下の二価有機基を示し、nは10以上の数を示す)で表されるポリシラン。
請求項(抜粋):
一般式(I)【化1】R1R2SiH2(式中、R1、R2は炭素数12以下の有機基を示す)で表されるジオルガノジヒドロシランを、有機基のみを配位子とする白金錯体触媒の存在下に脱水素縮合反応させることを特徴とする、一般式(II)【化2】(式中、R1、R2は前記と同じ意味を有し、nは10以上の数を示す)で表されるポリシランの製造方法。
引用特許:
審査官引用 (3件)

前のページに戻る