特許
J-GLOBAL ID：200903016020673884

熱処理装置

発明者：
宮田 敏光

宮田 敏光 について


出願人/特許権者：
株式会社日立国際電気

株式会社日立国際電気 について


代理人 (1件)： 梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-167902
公開番号（公開出願番号）：特開2002-367919
出願日： 2001年06月04日
公開日（公表日）： 2002年12月20日
要約：
【要約】【課題】 ウエハの実際の温度を計測して熱処理温度を適正に制御する。【解決手段】 バッチ式縦形ホットウォール形熱処理装置10において、プロセスチューブ11を封止するキャップ20にL字形状の放射温度計50を挿通し、放射温度計50の水平部の先端をボート21に保持された下から二段目のウエハ1と三段目のウエハ1の間に挿入して三段目のウエハ1の下面の中心に対向させる。放射温度計50は温度コントローラ33に接続し、温度コントローラ33は放射温度計50からの計測温度でヒータ32をフィードバック制御するように構成する。【効果】 放射温度計でウエハの中心部の現在の実際の温度を計測しヒータをフィードバック制御することで、熱処理中や昇降温時のウエハの中心部と周辺部の温度差を解消できるため、ウエハ面内の処理状態分布の均一性を向上できる。
請求項（抜粋）：
プロセスチューブの処理室内の基板間に放射温度計を側方から挿入し、この放射温度計によって前記基板の温度を計測し、前記プロセスチューブの外部に敷設されて前記処理室を加熱するヒータを前記放射温度計の計測結果によってフィードバック制御することを特徴とする熱処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/22 501 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324
FI (4件)：
H01L 21/22 501 N ,  H01L 21/22 511 Q ,  H01L 21/31 E ,  H01L 21/324 T
Fターム (6件)：
5F045BB02 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045EK06 ,  5F045EK22 ,  5F045GB05
引用特許：
審査官引用 (7件)
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