特許

J-GLOBAL ID：200903016049392949

蒸気供給装置を含む基板処理装置

発明者： 山本 久 ,  芝本 雅弘
出願人/特許権者： キヤノンアネルバ株式会社 ,  キヤノンアネルバテクニクス株式会社
代理人 (7件)： 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  岡部 讓 ,  臼井 伸一 ,  越智 隆夫 ,  朝日 伸光 ,  三山 勝巳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-278168
公開番号（公開出願番号）：特開2009-174044
出願日： 2008年10月29日
公開日（公表日）： 2009年08月06日
要約：

【課題】制御された蒸気の供給を可能とする。【解決手段】液体又は固体の物質を保持する保持部4と、保持部を冷却する冷却手段5と、保持部の温度を検知する検知手段6と、検知手段により検出した温度に基づき、冷却手段を制御する制御手段7と、を有し、制御手段により、冷却手段を用いて保持部の温度を制御することで、液体又は固体の物質の気化又は昇華を制御して、物質の蒸気を供給する。蒸気供給装置の置かれた雰囲気での、液体又は固体から気化又は昇華した蒸気の圧力を測定する手段9又は10を有し、制御手段は、測定された圧力に基づき蒸気の圧力が所定の値になるように保持部の温度を制御する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

液体又は固体の物質を保持する保持部と、 該保持部を冷却する冷却手段と、 該保持部の温度を検知する検知手段と、 該検知手段により検出した温度に基づき、前記冷却手段を制御する制御手段と、 を有し、 前記制御手段により、前記冷却手段を用いて前記保持部の温度を制御することで、前記液体又は固体の物質の気化又は昇華を制御して、前記物質の蒸気を供給することを特徴とする蒸気供給装置。

IPC (7件)：

C23C 14/54 ,  C23C 16/448 ,  H01L 43/08 ,  H01L 43/12 ,  G11B 5/851 ,  G11B 5/39 ,  H01L 21/31

FI (7件)：

C23C14/54 B ,  C23C16/448 ,  H01L43/08 Z ,  H01L43/12 ,  G11B5/851 ,  G11B5/39 ,  H01L21/31 E

Fターム (51件)：

4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA21 ,  4K029BA24 ,  4K029BA25 ,  4K029BB02 ,  4K029BC06 ,  4K029BD00 ,  4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K029DC04 ,  4K029DC16 ,  4K029DC34 ,  4K029DC40 ,  4K029DC45 ,  4K029GA00 ,  4K029JA02 ,  4K030AA01 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA08 ,  4K030EA01 ,  4K030KA25 ,  4K030KA26 ,  4K030LA20 ,  5D034BA02 ,  5D034BA03 ,  5D034DA04 ,  5D112AA05 ,  5D112AA17 ,  5D112AA24 ,  5D112BB06 ,  5D112FA04 ,  5D112FB08 ,  5D112FB20 ,  5F045AA20 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045EE02 ,  5F045EJ01 ,  5F045GB05 ,  5F045GB06 ,  5F092AB02 ,  5F092AB06 ,  5F092AC08 ,  5F092AC12 ,  5F092AD03 ,  5F092AD12 ,  5F092BB35 ,  5F092BB36 ,  5F092CA13

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 米国特許第7033685号明細書
  
• 米国特許第5302493号明細書
  
• 磁気抵抗多層膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-335454   出願人：アネルバ株式会社