特許

J-GLOBAL ID：200903016058685169

真空浸炭方法及び装置

発明者： 門野 徹 ,  原井 哲 ,  窪田 康浩 ,  岡田 徹也 ,  今井 直明
出願人/特許権者： 株式会社不二越
代理人 (1件)： 河内 潤二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-149696
公開番号（公開出願番号）：特開2000-336469
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：

【要約】【課題】鉄鋼材料の真空浸炭において、装入物の表面積が多くても均一な浸炭が得られる真空浸炭方法及び装置を提供。【解決手段】真空浸炭炉に供給する浸炭ガスに、a.容量%で、エチレンに窒素ガスを含む不活性ガスを50%未満混合した混合ガス、b.エチレンに水素を容積%で40%未満混合した混合ガス、c.エチレンに鎖式飽和炭化水素ガスであるメタン、エタン又は不飽和のプロピレンを容積%で40%未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不活性ガスを容量%で50%未満混合した混合ガス、又は、d.エチレンに鎖式不飽和炭化水素であるアセチレンを容量%で20%未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不活性ガスを容量%で50%未満混合した混合ガス、のいずれかを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの範囲であることを特徴とする真空浸炭方法及び装置。

請求項（抜粋）：

真空浸炭炉に供給する浸炭ガスに、a.エチレンに窒素ガスを含む不活性ガスを容量%で50%未満混合した混合ガス、b.エチレンに水素を容積%で40%未満混合した混合ガス、c.エチレンに鎖式飽和炭化水素ガスであるメタン、エタン又は不飽和のプロピレンを容積%で40%未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不活性ガスを容積%で50%未満混合した混合ガス、又はd.エチレンに鎖式不飽和炭化水素であるアセチレンを容量%で20%未満混合した混合ガスに窒素ガスを含む不活性ガスを容積%で50%未満混合した混合ガス、のいずれかを用い、かつ浸炭期の圧力が 1〜10 kPaの範囲であることを特徴とする真空浸炭方法。

Fターム (4件)：

4K028AA01 ,  4K028AA03 ,  4K028AC03 ,  4K028AC08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 浸炭部材とその製造方法並びに浸炭処理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-320482   出願人：株式会社小松製作所
• 特開平2-122062
  
• 低圧雰囲気内での鋼材の浸炭(セメンテーション)のための方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-245041   出願人：イノバティークソシエテアノニム
• 特公昭54-031976