特許
J-GLOBAL ID:200903077712051050

浸炭部材とその製造方法並びに浸炭処理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-320482
公開番号(公開出願番号):特開平11-117059
出願日: 1997年11月05日
公開日(公表日): 1999年04月27日
要約:
【要約】【課題】 鋼表面にセメンタイト粒子を均一に、かつ疲労強度に影響を与えないほどに細かく分散させるとともに、オーステナイト結晶粒の微細化を可能とする浸炭方法を得る。【解決手段】 980°C以上での高温浸炭時においてセメンタイトの析出を防止するために、少なくとも0.05≦〔Al重量%〕≦2.0、0.3≦〔Cr重量%〕≦4.0の範囲でAlとCrを含有し、かつ、1.9≧-5.6〔Si重量%〕-7.2〔Al重量%〕+1.1〔Mn重量%〕+2.1〔Cr重量%〕-0.9〔Ni重量%〕+1.1〔Mo重量%〕+0.6〔W重量%〕+4.3〔V重量%〕の条件を満足させる鋼中成分を有するものとする。
請求項(抜粋):
0.2〜2.0重量%のAlを含有する鋼を用いて、炭素ポテンシャルが1.2重量%以上の条件で浸炭した後にA1温度以下の温度域に冷却し、再加熱処理を施して使用することを特徴とする浸炭部材。
IPC (3件):
C23C 8/22 ,  C22C 38/00 301 ,  C22C 38/46
FI (3件):
C23C 8/22 ,  C22C 38/00 301 N ,  C22C 38/46
引用特許:
審査官引用 (7件)
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