特許
J-GLOBAL ID：200903016085316841
シリコンを含有する化学増幅型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-052541
公開番号（公開出願番号）：特開平10-282678
出願日： 1998年03月04日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：
【要約】【課題】 シリコンを含有する高分子化合物よりなる化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 化学増幅型レジストに使われ、重量平均分子量が3,000〜200,000の次の式のポリマー及びレジスト組成物。【化1】式中、R1は水素及びメチルよりなる群から選択されたいずれか一つである。
請求項（抜粋）：
下記構造式で示され、重量平均分子量が3000〜200000の化学増幅型レジスト用ポリマー。【化1】式中、R1は水素及びメチルよりなる群から選択されたいずれか一つである。
IPC (5件)：
G03F 7/075 511
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 601
, C08F 30/08
, C08L 43/04
G03F 7/075 511
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, C08F 30/08
, C08L 43/04
