特許

J-GLOBAL ID：200903016090842756

触媒体、排気ガス浄化用触媒体及び触媒体の製造方法

発明者： 八木 伸也 ,  生天目 博文 ,  谷口 雅樹 ,  アーリップ クトゥルク ,  住田 弘祐 ,  定井 麻子
出願人/特許権者： 独立行政法人科学技術振興機構 ,  マツダ株式会社
代理人 (10件)： 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  藤田 篤史 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-210618
公開番号（公開出願番号）：特開2006-026561
出願日： 2004年07月16日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：

【課題】排気ガスの浄化に有効に働かない触媒金属量を少なくして、触媒活性を向上しながら、コスト低減を図る。【解決手段】ハニカム状触媒担体2のセル壁4に無機酸化物粒子を含有するコート層を形成し、触媒活性金属の蒸気を不活性ガス中で凝縮させ、この触媒活性金属のクラスター微粒子を不活性ガス流によって上記触媒担体に衝突させることによって、触媒活性金属をクラスター微粒子として上記コート層に表層部に付着させ、触媒層5を形成する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

触媒担体に、触媒活性金属を担持した無機酸化物粒子を含有する触媒層が形成されている触媒体であって、 上記触媒層は、少なくとも数十μmの厚さに形成され、 上記触媒活性金属は、当該金属蒸気を不活性ガス中で凝縮させることによってクラスター微粒子とされて上記無機酸化物粒子に担持され、且つその担持量は上記触媒層の上記触媒担体に近い側よりも該触媒層表面側の方が多くなっていることを特徴とする触媒体。

IPC (6件)：

B01J 37/02 ,  B01J 23/44 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/24 ,  F01N 3/28 ,  B01D 53/94

FI (6件)：

B01J37/02 301P ,  B01J23/44 A ,  C23C14/14 D ,  C23C14/24 S ,  F01N3/28 301Q ,  B01D53/36 104A

Fターム (88件)：

3G091AB01 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091BA39 ,  3G091GA06 ,  3G091GA18 ,  3G091GB01W ,  3G091GB07W ,  3G091GB17X ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB05 ,  4D048BA03X ,  4D048BA06Y ,  4D048BA10X ,  4D048BA11Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31X ,  4D048BA33Y ,  4D048BA35Y ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048BB16 ,  4D048BB17 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01B ,  4G069BA02A ,  4G069BA07A ,  4G069BA13B ,  4G069BC31A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72B ,  4G069BC74A ,  4G069BC75A ,  4G069CA02 ,  4G069CA03 ,  4G069CA09 ,  4G069DA06 ,  4G069EA18 ,  4G069EB15X ,  4G069EB15Y ,  4G069EB18X ,  4G069EB18Y ,  4G069EC29 ,  4G069FA02 ,  4G069FA03 ,  4G069FB02 ,  4G069FB15 ,  4G069FB30 ,  4G069FB37 ,  4G069FC06 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01B ,  4G169BA02A ,  4G169BA07A ,  4G169BA13B ,  4G169BC31A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72B ,  4G169BC74A ,  4G169BC75A ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA09 ,  4G169DA06 ,  4G169EA18 ,  4G169EB15X ,  4G169EB15Y ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169EC29 ,  4G169FA02 ,  4G169FA03 ,  4G169FB02 ,  4G169FB15 ,  4G169FB30 ,  4G169FB37 ,  4G169FC06 ,  4K029AA21 ,  4K029BA02 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029EA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 高活性触媒製造方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-072059   出願人：石川島播磨重工業株式会社

審査官引用 (2件)

• 特開平4-108539
  
• ナノ構造体の形成方法並びにナノ構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-365769   出願人：松下電器産業株式会社