特許
J-GLOBAL ID:200903016107190910

磁気抵抗効果素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-061873
公開番号(公開出願番号):特開2001-250208
出願日: 2000年03月02日
公開日(公表日): 2001年09月14日
要約:
【要約】【課題】 第1の強磁性層を単磁区化し、磁壁が生じることを防止する。【解決手段】 TMR薄膜3の両端部に、高い抵抗値を有する硬磁性材料によってバイアス層4を形成する。このため、センス電流がバイアス層4に分流することがなくなる。そして、TMR薄膜3に対して十分にバイアス磁界を印加することが可能となる。このことにより、フリー層13が単磁区化するため、磁壁の発生を防止できる。
請求項(抜粋):
感磁部である磁気抵抗効果薄膜と、上記磁気抵抗効果薄膜の両端部に形成され、磁気抵抗効果薄膜に対してバイアス磁界を印加する硬磁性層と、上記磁気抵抗効果薄膜の両主面側に形成され、磁気抵抗効果薄膜に対して電流を供給する電極層とを備え、上記硬磁性層は、0.5Ωcm以上の電気抵抗を有する材料によって形成されていることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
IPC (3件):
G11B 5/39 ,  H01F 10/18 ,  H01L 43/08
FI (3件):
G11B 5/39 ,  H01F 10/18 ,  H01L 43/08 Z
Fターム (12件):
5D034BA04 ,  5D034BA08 ,  5D034BA12 ,  5D034BB08 ,  5D034CA04 ,  5D034CA08 ,  5E049AB02 ,  5E049AC05 ,  5E049BA16 ,  5E049CB02 ,  5E049CC01 ,  5E049CC08
引用特許:
審査官引用 (4件)
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