特許

J-GLOBAL ID：200903016144316222

複合半透膜およびその製造方法

発明者： 新 幹雄 ,  房岡 良成 ,  池田 敏裕
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-291787
公開番号（公開出願番号）：特開2000-117075
出願日： 1998年10月14日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】本発明は、分離膜に4級窒素原子を導入することにより、液状混合物の選択分離、特に、低塩濃度水溶液中の電解質除去に有用な複合半透膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】架橋ポリアミドを有する超薄膜層を微多孔性支持膜上に形成し、その架橋ポリアミドに、4級窒素原子を有し、かつ、少なくとも2個の反応性の官能基を有する化合物を反応させる。

請求項（抜粋）：

微多孔性支持膜上に架橋ポリアミドを有する超薄膜層を配してなる複合半透膜であって、亜硫酸水素ナトリウム溶液に浸漬させた後、1ppm塩化ナトリウム溶液を原水として用いたときの透過水の比抵抗保持率が80%以上であることを特徴とする複合半透膜。

IPC (4件)：

B01D 71/56 ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/44

FI (4件)：

B01D 71/56 ,  B01D 61/02 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/44 H

Fターム (23件)：

4D006GA03 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006KB11 ,  4D006KE07R ,  4D006KE13R ,  4D006KE15Q ,  4D006KE19R ,  4D006MA07 ,  4D006MB18 ,  4D006MC54 ,  4D006MC56 ,  4D006MC62X ,  4D006MC71 ,  4D006MC78 ,  4D006NA05 ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006NA54 ,  4D006NA63 ,  4D006PB04 ,  4D006PB70

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 複合逆浸透膜による処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-197989   出願人：日東電工株式会社
• 多段式逆浸透システム及びこれを用いた超純水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-192647   出願人：日東電工株式会社

審査官引用 (1件)

• 複合逆浸透膜による処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-197989   出願人：日東電工株式会社