特許

J-GLOBAL ID：200903016147364023

傷害を受けたDNA断片の収集法

発明者： 豊國 伸哉 ,  赤塚 慎也 ,  二階堂 修
出願人/特許権者： 社団法人芝蘭会 ,  日研ザイル株式会社
代理人 (3件)： 田村 恭生 ,  齋藤 みの里 ,  品川 永敏
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005001085
公開番号（公開出願番号）：WO2005-073373
出願日： 2005年01月27日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

本発明は、DNAを含む試料中の酸化ストレスにより傷害された領域のDNA断片を選択的に収集する方法であって、試料からDNAを抽出し、断片化した後、傷害により修飾された修飾ヌクレオシドまたは該修飾ヌクレオシドを含むポリヌクレオチドに特異的な一次抗体とインキュベートし、沈降した複合体を回収し、該複合体から傷害されたDNA断片を回収することを特徴とする方法を提供する。

請求項（抜粋）：

DNAを含む試料中の酸化ストレスにより傷害された領域のDNA断片を収集する方法であって、試料からDNAを抽出し、断片化した後、傷害により修飾された修飾ヌクレオシドまたは該修飾ヌクレオシドを含むポリヌクレオチドに特異的な一次抗体とインキュベートし、沈降した複合体を回収し、該複合体から傷害されたDNA断片を回収することを特徴とする方法。

IPC (4件)：

C12N 15/09 ,  C12Q 1/68 ,  G01N 33/53 ,  G01N 33/566

FI (4件)：

C12N15/00 A ,  C12Q1/68 Z ,  G01N33/53 M ,  G01N33/566

Fターム (20件)：

4B024AA11 ,  4B024AA20 ,  4B024CA01 ,  4B024HA09 ,  4B024HA11 ,  4B024HA15 ,  4B024HA20 ,  4B063QA01 ,  4B063QA13 ,  4B063QQ02 ,  4B063QQ03 ,  4B063QQ08 ,  4B063QQ42 ,  4B063QR48 ,  4B063QR51 ,  4B063QR56 ,  4B063QR83 ,  4B063QS13 ,  4B063QS33 ,  4B063QX02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第3091974号