特許
J-GLOBAL ID:200903016154024700

不揮発性半導体記憶装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 恩田 博宣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-283868
公開番号(公開出願番号):特開平9-213086
出願日: 1996年10月25日
公開日(公表日): 1997年08月15日
要約:
【要約】【課題】消費電力が少なく、動作速度が速く、回路規模の小さなフラッシュEEPROMを提供する。【解決手段】ビット消去モードにおいて、共通ソース線SLとビット線BLnの電位はグランドレベルにされ、ビット線BLmには+5Vが供給される。ワード線WLmには+15Vが供給され、ワード線WLnの電位はグランドレベルにされる。メモリセル1cについては消去動作が行われる。メモリセル1aについては、フローティングゲートFG中の電子はコントロールゲートCG側へ引き抜かれず、消去動作は行われない。メモリセル1dについても消去動作は行われない。メモリセル1bについては、チャネルCHがオフしているため、書き込み動作も消去動作も行われない。
請求項(抜粋):
フローティングゲートの電位をメモリセル毎に制御することで、任意のメモリセルに対してだけ消去動作を行う不揮発性半導体記憶装置。
引用特許:
審査官引用 (8件)
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