マスクパターン形状評価装置および形状評価方法並びに形状評価プログラムを記録した記録媒体

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-364745
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183810
出願日： 1999年12月22日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：

【要約】【課題】マスクパターンの形状評価装置及び形状評価方法において、微細なパターンを含むフォトマスクのパターン形状評価に関して新たな評価手段を用いることにより、正確かつ高精度な形状評価装置及び形状評価方法を提供する。【解決手段】マスクパターン画像を入力し、コンピュータを用いた画像処理によってパターンの輪郭形状データを抽出した後、特定パターンをベクトル符号化し特定パターンの形状特徴を判断処理して、所定の形状特性値を算出することによりパターン形状を評価することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

マスクパターンの形状評価装置において、マスクパターン画像を入力し、コンピュータを用いた画像処理によってパターンの輪郭形状データを抽出した後、特定パターンをベクトル符号化し特定パターンの形状特徴を判断処理して、所定の形状特性値を算出することによりパターン形状を評価することを特徴とする、マスクパターン形状評価装置。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 S , H01L 21/30 502 V

Fターム (7件)：

2H095BA01 , 2H095BB02 , 2H095BB36 , 2H095BC09 , 2H095BD24 , 2H095BD26 , 2H095BD28

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-021808
パターン欠陥および異物検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-165272 出願人：株式会社ニコン
特開平3-021808

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