特許
J-GLOBAL ID：200903016214203978
ごみから水素および一酸化炭素に富むガスの製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-032830
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228974
出願日： 1998年02月16日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：
【要約】【課題】 ごみから水素および一酸化炭素に富むガスの製造。【解決手段】 反応器にごみと酸素が供給されて部分酸化され850°C以上のガスとされ、一方、灰分は反応器から850°C以上でスラグとして排出される部分酸化工程と、前記ガスが急冷されるとともに該ガスに含まれるHClのほぼ全量、HCNのほぼ全量およびダストの一部を除去するガスの冷却工程と、前記工程で除去できなかったダストおよび含硫黄成分等をプロセスの供給原料することができる程度に精製する精製工程とからなり、これらの工程を経て水素および一酸化炭素に富むガスを回収し、該ガスを種々のプロセスの供給原料とする方法およびそれに用いる装置。
請求項（抜粋）：
ごみを原料とし、該原料から他のプロセスの供給原料として許容される程度に精製された可燃性ガスを得、該可燃性ガスを該プロセスの供給原料として用いるにあたり、ごみに含まれる炭素源と酸素の特定の所定量が反応器に供給され、該反応器内で部分酸化され発生するHCl,HCN,含硫黄成分およびダストを含むガスがダイオキシンの再合成を抑制するような温度に維持されたまま次工程に供給され、一方、灰分はダイオキシンが分解されるような温度に維持されてスラグとして排出される部分酸化工程と、前記部分酸化工程から前記温度に維持され排出されたガスがダイオキシンの再合成を抑制するように急冷され、かつ、該ガス中のHClのほぼ全量、HCNのほぼ全量およびダストの一部が除去されるガスの冷却工程と、前記ガスの冷却工程から排出されたガスが精製塔に導かれ、プロセスへの原料として許容されるように含硫黄成分およびダストが除去され、H2およびCOに富むガスとされるガスの精製工程とからなることを特徴とするごみから水素および一酸化炭素に富むガスの製造方法。
IPC (3件)：
C10J 3/00
, B09B 3/00 ZAB
, B09B 3/00
C10J 3/00 A
, C10J 3/00 F
, B09B 3/00 ZAB
, B09B 3/00 302 G
