特許
J-GLOBAL ID:200903016258616145

基板処理装置のカセット搬入/搬出方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉谷 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-152678
公開番号(公開出願番号):特開平7-335715
出願日: 1994年06月09日
公開日(公表日): 1995年12月22日
要約:
【要約】【目的】 装置のコンパクト化と処理のスループットの向上を同時に図る基板処理装置のカセット搬入/搬出方法及びその装置を提供する。【構成】 各カセットC1、C2の搬入は、前工程からの第1、第2カセットC1、C2が載置台11a、11bに載置され、第1、第2カセット支持機構21、22はカセット受台33を上昇させて各カセットの底部を支持して載置台11a、11bから持ち上げ、カセット受台33を水平旋回させて各カセットのUエンド面の向きを転換し、各カセット支持機構21、22の間隔を縮めて各カセットの間隔を縮め、コンベア37を駆動して各カセット支持機構21、22を同時に移動して各カセットを載置台12a、12bに同時に搬送する。載置台12a、12bの各カセットはカセット受渡し装置で同時に装置内に搬入される。
請求項(抜粋):
基板処理装置による処理の前工程または後工程とインターフェースステージの第1カセット受渡し位置、第2カセット受渡し位置との間、前記第1、第2カセット受渡し位置と前記基板処理装置の搬入/搬出口前の第1カセット搬入/搬出位置、第2カセット搬入/搬出位置との間、前記第1、第2カセット搬入/搬出位置と前記基板処理装置内との間で、複数枚の基板が収納された第1カセットと第2カセットとをそれぞれ受け渡す基板処理装置のカセット搬入/搬出方法であって、前記前工程または後工程と前記第1、第2カセット受渡し位置との間で、前記第1、第2カセットを略同時に受け渡すカセット受渡し過程と、前記第1、第2カセット受渡し位置と前記第1、第2カセット搬入/搬出位置との間で、前記第1、第2カセットを略同時に搬送するカセット搬送過程と、前記第1、第2カセット搬入/搬出位置と前記基板処理装置内との間で、前記第1、第2カセットを略同時に搬入/搬出するカセット搬入/搬出過程と、を備え、前記カセット搬送過程には、前記第1、第2カセットの間隔を変位させる過程と、前記第1、第2カセットの、各カセットに収納される各基板の処理面が向けられる側面(以下、「Uエンド面」という)の向きを転換させる過程と、を含むことを特徴とする基板処理装置のカセット搬入/搬出方法。
IPC (5件):
H01L 21/68 ,  B23Q 7/14 ,  B23Q 41/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 361
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 処理システム
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-210978   出願人:東京エレクトロン東北株式会社

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