特許
J-GLOBAL ID：200903016262211745
成膜装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
川嶋 正章
, 渡辺 征一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-265714
公開番号（公開出願番号）：特開2008-081820
出願日： 2006年09月28日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：
【課題】成膜時の温度上昇による熱膨張に起因する基材シートのしわの発生を抑制しうる成膜装置を提供する。【解決手段】成膜装置10は、真空蒸着を行うためにリチウム等の蒸気を生成する気体粒子生成部13と、気体粒子が堆積される基材シート31を移動可能に支持する搬送支持部材であるキャンロール33と、気体粒子の飛来を制限する防着板36と、基材シート31がキャンロール33に接触する前に基材シート31を加熱するランプヒータ40とを備えている。基材シート31が気体粒子や気体粒子生成部13の加熱機構によって加熱される前に、ランプヒータ40で基材シート31を加熱して熱膨張させることで、キャンロール33上における基材シート31のしわの発生を抑制する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
無機材料の気体粒子を生成する気体粒子生成部と、
前記気体粒子を堆積させるための基材シートを連続的に供給する供給部と、
前記気体粒子生成部に対向して設けられ、前記供給部から供給される基材シートを移動可能に支持する搬送支持部材と、
前記気体粒子が堆積された基材シートを収納する収納部と、
前記基材シートを、少なくとも基材シートが前記搬送支持部材に接触する前の領域において加熱する加熱装置と、
を備えている、成膜装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (18件)：
4K029AA02
, 4K029AA25
, 4K029BA21
, 4K029CA01
, 4K029DB04
, 4K029DB18
, 4K029FA06
, 4K029JA10
, 4K029KA03
, 5H050AA19
, 5H050BA16
, 5H050BA17
, 5H050CB11
, 5H050DA07
, 5H050GA02
, 5H050GA24
, 5H050GA29
, 5H050HA14
出願人引用 (2件)
-
磁気記録媒体の製造装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-212491
出願人：花王株式会社
-
フィルム状基材への膜形成装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-166253
出願人：日本ケミコン株式会社, ケーデーケー株式会社, 株式会社神戸製鋼所
審査官引用 (11件)
-
特開昭60-187674
-
特開平2-166280
-
特開平3-158466
全件表示
前のページに戻る
