特許
J-GLOBAL ID:200903016266629981

加熱体、加熱装置、及び画像形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-230780
公開番号(公開出願番号):特開平8-069191
出願日: 1994年08月30日
公開日(公表日): 1996年03月12日
要約:
【要約】【目的】 セラミック基材上に抵抗発熱体を形成した加熱体、該加熱体を用いた加熱装置、該加熱装置を像加熱装置として備えた画像形成装置について、急速に加熱しても熱膨張率の差による歪みで加熱体が割れるのを防止すること、加熱面積ないし加熱時間を多く(拡大)することを可能にすること、また加熱効率の改善、加熱終了時の加熱体と被加熱材の分離をよくすること等。【構成】 セラミック基材2上の片面に複数の給電電極5・6と抵抗発熱体3a・3bを形成し、この抵抗発熱体3a・3bが給電電極5・6間で往路と復路を形成してなることを特徴とする加熱体。抵抗発熱体3a・3bの単位長さ当りの抵抗値が往路と復路で異なること。抵抗発熱体の材質が往路と復路で異なること。抵抗発熱体の幅が往路と復路で異なること。抵抗発熱体の厚みが往路と復路で異なること。
請求項(抜粋):
セラミック基材上の片面に複数の給電電極と抵抗発熱体を形成し、この抵抗発熱体が給電電極間で往路と復路を形成してなることを特徴とする加熱体。
IPC (3件):
G03G 15/20 101 ,  G03G 15/00 550 ,  H05B 3/20 328
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • セラミックヒータ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-359589   出願人:キヤノン株式会社
  • 定着装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-160498   出願人:キヤノン株式会社
  • 定着ヒータ、定着装置および画像形成装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-149627   出願人:東芝ライテック株式会社, 東芝エー・ブイ・イー株式会社

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