特許

J-GLOBAL ID：200903016356196308

リチウムマンガン酸化物スピネル化合物及びその製造方法

発明者： ヴェセリン・マネフ ,  タイタス・フォークナー ,  ディー・ウェイン・バーネット
出願人/特許権者： エフエムシー・コーポレイション
代理人 (1件)： 奥山 尚男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-293438
公開番号（公開出願番号）：特開2000-143248
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：

【要約】【課題】 リチウムマンガン酸化物スピネル化合物及びその製造方法【解決手段】 本発明は、低い多孔度、高タップ密度及び高ペレット密度を有するリチウムマンガン酸化物スピネル化合物及びこれらの化合物の製造方法を含む。特に、この方法は、スピネル構造を持ち、式Li1+XMn2-YMm11Mm22・・・MmkkO4+Zを有するリチウムマンガン酸化物を製造することを含み、式中、M1、M2、・・・Mkは、アルカリ土類金属、遷移金属、B、Al、Si、Ga及びGeからなる一群から選ばれ、リチウムまたはマンガンではないカチオンであり、X、Y、m1、m2、・・・mkは、それぞれは、0〜0.2の値を有し、Zは、-0.1〜+0.2の値を有し、X、Y、m1、m2、・・・mkは、式Y=X+m1+m2+・・・+mkを満たすように選ばれる。

請求項（抜粋）：

スピネル構造を持ち、式Li1+XMn2-YMm11Mm22・・・MmkkO4+Zを有するリチウムマンガン酸化物であって、M1、M2、・・・Mkは、アルカリ土類金属、遷移金属、B、Al、Si、Ga及びGeからなる一群から選ばれ、リチウムまたはマンガンではないカチオンであり、X、Y、m1、m2、・・・mkは、それぞれ0〜0.2であり、Zは、-0.1〜+0.2であり、X、Y、m1、m2、・・・mkは、式Y=X+m1+m2+・・・+mkを満たすように選ばれ、また該リチウムマンガン酸化物中の1ミクロン未満の平均半径を有する孔の孔容積が該リチウムマンガン酸化物の全孔容積の20%以下であるリチウムマンガン酸化物。

IPC (4件)：

C01G 45/00 ,  H01M 4/02 ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40

FI (4件)：

C01G 45/00 ,  H01M 4/02 C ,  H01M 4/58 ,  H01M 10/40 Z

引用特許：

審査官引用 (5件)

• リチウム電池の正極活物質として有用な酸化マンガンに基づく挿入化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-152006   出願人：コミツサリアタレネルジーアトミーク, エレクトリシテ・ドゥ・フランス・サービス・ナショナル, ボロール・テクノロジー・ソシエテ・アノニム
• 針状マンガン複合酸化物及びその製造方法並びにその用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-047923   出願人：東ソー株式会社
• リチウムとマンガン(III/IV)を含有するスピネル構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-123188   出願人：ビーエーエスエフマグネティックスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• リチウムマンガンスピネル及びその製造方法並びにその用途
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-285018   出願人：東ソー株式会社
• 二次電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-289721   出願人：有限会社ハイバル