特許

J-GLOBAL ID：200903016362810085

プラズマ処理装置、プラズマ生成導入部材及びスロット電極

発明者： 本郷 俊明 ,  大沢 哲
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-085332
公開番号（公開出願番号）：特開2001-274150
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、被処理体へのプラズマ処理速度を確保しつつ不純物の混入を防止することによって高品質のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置、プラズマ導入部材及びスロット電極を提供することを例示的目的とする。【解決手段】 本発明は、被処理体にプラズマ処理を行う処理室にプラズマ処理に必要な電源周波数の波を案内するスリットをスロット電極に設け、スロット電極を均等な面積を有する複数の領域に分割して各領域に前記スリットを配置した。かかるスロット電極は、均等な面積を有する複数の領域に分割して各領域にスリットを配置しているために、ほぼ一定のスリット密度を有する。

請求項（抜粋）：

被処理体にプラズマ処理を行う処理室に当該プラズマ処理に必要な電源周波数の波を案内するスリットを有するスロット電極であって、当該スロット電極を均等な面積を有する複数の多角形領域に分割して各領域に前記スリットを配置し、前記スリットは、前記スロット電極の中心から見てほぼ45度に傾斜するT字形又はV字形の組から構成されるスロット電極。

IPC (5件)：

H01L 21/31 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

H01L 21/31 C ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/511 ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B

Fターム (62件)：

4G075AA24 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA02 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075FC15 ,  4K030AA06 ,  4K030BA40 ,  4K030CA04 ,  4K030CA17 ,  4K030FA02 ,  4K030GA02 ,  4K030KA20 ,  4K030KA23 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BC02 ,  5F004BC06 ,  5F004DA01 ,  5F004DA04 ,  5F004DA05 ,  5F004DA06 ,  5F004DA11 ,  5F004DA12 ,  5F004DA18 ,  5F004DA20 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA24 ,  5F004DA25 ,  5F004DA29 ,  5F045AA09 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AE17 ,  5F045AF07 ,  5F045BB14 ,  5F045CB01 ,  5F045DC55 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB02 ,  5F045EH04 ,  5F045EJ02 ,  5F045EJ09 ,  5F045EK01 ,  5F045EN04

引用特許：

出願人引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-153357   出願人：東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-225048   出願人：株式会社フロンテック, 大見忠弘
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-289746   出願人：株式会社日立製作所
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-242233   出願人：株式会社フロンテック, 大見忠弘