特許

J-GLOBAL ID：200903016402815840

低ヒドロキシル基含量の有機/無機複合体、それらの製造方法および用途

発明者： フリース キラ ,  メニッヒ マルチン ,  シュミット ヘルムート ,  ゾーリング ウルリッヒ ,  キシン クィウ ,  ザーンハウゼン ミカエル
出願人/特許権者： インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外8名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-536243
公開番号（公開出願番号）：特表2001-511843
出願日： 1998年02月18日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：

【要約】本発明は、極めて低い水吸収を有するケイ酸ヘテロポリ縮合物に基づく、低ヒドロキシル基含量の透明な有機/無機複合体に関する。これらの複合体は、例えば、重合性基および必要に応じてフッ素化基を有するクロロシランを、このクロロシランの非加水分解性縮合が可能な縮合剤(例えば、t-ブタノール)により、非加水分解性縮合させ、得られた縮合生成物を、好ましくはフッ素化有機モノマーの存在下で、熱的および/または光化学的に重合させることによって得られる。

請求項（抜粋）：

ヒドロキシル基に乏しい有機/無機複合体の製造方法であって、 (1)1種又はそれ以上のシランの非加水分解性縮合(該シランの少なくとも一部は、少なくとも1つの重合性C-C二重または三重結合を特徴とする基を有し、該基はSi-C結合を介してSiに結合しており、縮合に使用できないシランのSi原子上の残りの基は、置換されていても良い飽和脂肪族および芳香族炭化水素基から好ましくは選択される);および (2)工程(1)の縮合生成物の熱的および/または光化学的重合、 を包含する方法。

IPC (5件)：

C08F290/06 ,  C08F299/08 ,  C08G 77/06 ,  C08G 77/20 ,  C08G 77/24

FI (5件)：

C08F290/06 ,  C08F299/08 ,  C08G 77/06 ,  C08G 77/20 ,  C08G 77/24

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特表昭57-500984
  
• 特表平6-506499
  
• 制電性被覆材組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-344474   出願人：三菱レイヨン株式会社
• 活性エネルギ-線硬化性被覆材組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-132702   出願人：三菱レイヨン株式会社
• 硬化性組成物、複合充填材、及び歯科用修復材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-115022   出願人：三菱レイヨン株式会社
• 特開昭53-007651
  
• 特開昭61-241327