特許
J-GLOBAL ID：200903016404370030
真空蒸着装置及び真空蒸着方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-329673
公開番号（公開出願番号）：特開2003-129230
出願日： 2001年10月26日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：
【要約】【課題】 被蒸着体を自重で変形しない状態でセットすることができ、均一な膜厚で被蒸着体に蒸着を行なうことができる蒸着装置及び蒸着方法を提供する。【解決手段】 真空チャンバー1内に蒸発源2と被蒸着体3を配置すると共に蒸発源2と被蒸着体3の間の空間を蒸発源2の物質が気化される温度で加熱された筒状体4で囲み、蒸発源2から気化した物質を筒状体4内を通して被蒸着体3の表面に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置に関する。筒状体4を略直角に屈曲した形状に形成して筒状体4の一端の開口部5を略水平方向に開口させ、被蒸着体3をこの開口部5に対面させて配置する。被蒸着体3を鉛直姿勢で配置することができ、重力の作用で被蒸着体3が変形することを防ぐことができる。
請求項（抜粋）：
真空チャンバー内に蒸発源と被蒸着体を配置すると共に蒸発源と被蒸着体の間の空間を蒸発源の物質が気化される温度で加熱された筒状体で囲み、蒸発源から気化した物質を筒状体内を通して被蒸着体の表面に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置において、筒状体を略直角に屈曲した形状に形成して筒状体の一端の開口部を略水平方向に開口させ、被蒸着体をこの開口部に対面させて配置して成ることを特徴とする真空蒸着装置。
Fターム (6件)：
4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029CA01
, 4K029DA10
, 4K029DB00
, 4K029JA00
