特許

J-GLOBAL ID：200903016422502180

導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法

発明者： 加納 丈嘉 ,  川村 浩一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-237004
公開番号（公開出願番号）：特開2005-101554
出願日： 2004年08月17日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】 金属微粒子が高密度に分散され、その密着性及び耐久性に優れる金属微粒子吸着領域がパターン状に形成された金属微粒子パターン形成方法、及び該金属微粒子パターン形成方法を用いた導電性パターン形成方法を提供する。【解決手段】 支持体上に、側鎖に重合開始能を有する官能基及び架橋性基を有するポリマーを架橋反応により固定化してなる重合開始層を設ける工程と、 該重合開始層表面に、金属イオン又は金属塩を含有し得る機能を有するグラフトポリマーからなる領域をパターン状に形成する工程と、 該グラフトポリマー層に金属イオン又は金属塩を含有させた後、該金属イオン又は該金属塩中の金属イオンを還元させ、金属微粒子分散領域を形成する工程と、を有することを特徴とする金属微粒子パターン形成方法、及び、該金属微粒子パターン形成方法を用いた導電性パターン形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

支持体上に、側鎖に重合開始能を有する官能基及び架橋性基を有するポリマーを架橋反応により固定化してなる重合開始層を設ける工程と、 該重合開始層表面に、金属イオン又は金属塩を含有し得る機能を有するグラフトポリマーからなる領域をパターン状に形成する工程と、 該グラフトポリマーからなる領域に金属イオン又は金属塩を含有させた後、該金属イオン又は該金属塩中の金属イオンを還元させ、金属微粒子分散領域を形成する工程と、 を有することを特徴とする金属微粒子パターン形成方法。

IPC (4件)：

H05K3/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40

FI (4件)：

H05K3/10 C ,  G03F7/004 521 ,  G03F7/26 521 ,  G03F7/40 521

Fターム (29件)：

2H025AA00 ,  2H025AA13 ,  2H025AA14 ,  2H025AA19 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH03 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA10 ,  2H025FA37 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096AA30 ,  2H096BA20 ,  2H096EA04 ,  2H096EA23 ,  2H096HA09 ,  2H096JA04 ,  2H096LA30 ,  5E343AA12 ,  5E343AA38 ,  5E343DD02 ,  5E343GG11 ,  5E343GG13

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 電磁波シールド材料並びにこの材料を用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-224017   出願人：日立化成工業株式会社
• 高密度磁気記録媒体パターンドメディアとその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-284946   出願人：科学技術振興事業団, 科学技術庁金属材料技術研究所長