還元性ポリマー微粒子を用いるパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：萼経夫 , 宮崎嘉夫 , 舘石光雄 , 中村壽夫 , 加藤勉 , 小野塚薫 , ▲高▼ 昌宏 , 村越祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-094201
公開番号（公開出願番号）：特開2007-270179
出願日： 2006年03月30日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：

【課題】還元性ポリマー微粒子を用いるパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法を提供する。【解決手段】基材フィルム上にパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法であって、1)有機溶媒と、水と、アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤を混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、ピロール及び/又はピロール誘導体のモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより、有機溶媒に分散した導電率が0.01S/cm未満である微粒子を得る工程、2)前記微粒子が分散された塗料を基材フィルム上にコーティングしてポリマー層を形成する工程、3)基材フィルム上の前記ポリマー層に紫外線をマスクパターンを介して照射する工程、4)前記ポリマー層のうち、紫外線が照射されなかった部分について無電解めっき液から金属膜を化学めっきする工程、よりなる製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基材フィルム上にパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法であって、 1)有機溶媒と、水と、アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤を混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、ピロール及び/又はピロール誘導体のモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより、有機溶媒に分散した導電率が0.01S/cm未満である微粒子を得る工程、 2)前記微粒子が分散された塗料を基材フィルム上にコーティングしてポリマー層を形成する工程、 3)基材フィルム上の前記ポリマー層にマスクパターンを介して紫外線を照射する工程、4)前記ポリマー層のうち、紫外線が照射されなかった部分について無電解めっき液から金属膜を化学めっきする工程、よりなる製造方法。

IPC (2件)：

C23C 18/28 , C23C 18/20

FI (2件)：

C23C18/28 , C23C18/20 A

Fターム (10件)：

4K022AA13 , 4K022AA32 , 4K022AA35 , 4K022BA08 , 4K022BA35 , 4K022CA03 , 4K022CA08 , 4K022CA12 , 4K022CA22 , 4K022DA01

引用特許：

出願人引用 (6件)

特許第3069942号明細書
電気回路基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-181029 出願人：ユニチカ株式会社
特許第3208735号明細書

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