特許
J-GLOBAL ID：200903016512553256
レーザー用膜製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-271212
公開番号（公開出願番号）：特開平6-116708
出願日： 1992年09月14日
公開日（公表日）： 1994年04月26日
要約：
【要約】【目的】 不純物・ゴミ等の少い薄膜素子を製造する。【構成】 基板W1 は仕切弁2bを通って真空槽である搬入室2へ搬入される。搬入室2を排気したのち、基板W1 を往復移動させながら、基板W1 の成膜面にイオンガン4からイオンビームを照射して、前工程で基板W1 の成膜面に導入、付着した不純物・ゴミ等を除去する。次いでゲート弁1cを開いて基板W1 を成膜室1へ搬入して基板ホルダ1bに装着し、蒸発源1aから蒸気を発生させて成膜面に薄膜を蒸着する。
請求項（抜粋）：
成膜面を有する基板を第1の真空槽に搬入して該第1の真空槽を排気する工程と、排気された第1の真空槽の基板を第2の真空槽に搬入してその成膜面に薄膜を蒸着する工程からなり、前記第1の真空槽が排気されたのち、排気された第1の真空槽の基板の成膜面にイオンビームを照射することを特徴とするレーザー用膜製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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