特許
J-GLOBAL ID:200903016527798867
ワーク保持装置及び両頭研削装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-261843
公開番号(公開出願番号):特開2004-098198
出願日: 2002年09月06日
公開日(公表日): 2004年04月02日
要約:
【課題】本発明は、光学部品のガラスや半導体シリコンウエハのような薄型ワークの両面を処理する加工装置に好適なワーク保持装置及び両頭研削装置に関し、ローラの交換頻度を低減し、ワーク保持装置のメンテナンス及び、ワークの厚み加工精度の向上を図ることを目的とする。【解決手段】ローラを有するワーク保持装置において、ローラ50と、クランプ部溝付きローラ30と、駆動用溝付きローラ60とに設けられた溝部で、ワーク80の外周部を一対の面接触で挟持することにより、ワーク80をローラの回転軸方向と、前記ローラの回転軸に直交する方向に対しての振動及び移動を制御して、研削加工を行う。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
ローラを用いてワークを保持するワーク保持装置において、
前記ローラに前記ワークの位置規制を行なう溝部を形成すると共に、
前記ローラの回転軸方向に対する位置調整を行う位置調整機構を設けたことを特徴とするワーク保持装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (9件):
3C034AA08
, 3C034BB71
, 3C034CB07
, 3C034DD10
, 3C043BA09
, 3C043BC07
, 3C043CC04
, 3C043DD05
, 3C043DD11
引用特許:
審査官引用 (2件)
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両面研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-037680
出願人:日立造船株式会社
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ウェハの両面加工方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-254907
出願人:トーヨーエイテック株式会社
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