特許
J-GLOBAL ID:200903016584090935
FPCの製造方法及び表示装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
林 敬之助
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-070654
公開番号(公開出願番号):特開2001-267376
出願日: 2000年03月14日
公開日(公表日): 2001年09月28日
要約:
【要約】【課題】スズメッキによるリード断線のない、また、半田工程でレジスト剥がれの発生しないの安価なFPC及び表示装置を実現する。【解決手段】パターニングされた銅パターン上に第一のスズメッキを形成し、その後レジストを形成し、レジストが形成されていない部分の銅パターン上に第二のスズメッキの加工を行う。このようなプロセスにより、安価なファインパターンのフレキシブル基板が実現できる。
請求項(抜粋):
50μm以下の厚みのポリイミドフィルムに銅を12μm以下の厚みに形成する工程と、前記銅をパターニングしてパターンを形成する工程と、前記パターン上に第一のスズメッキをする工程と、選択的にソルダーレジストを形成する工程と、第二のスズメッキをする工程と、を有することを特徴とするFPCの製造方法。
IPC (12件):
H01L 21/60 311
, C23C 18/52
, C23C 28/00
, C25D 5/10
, C25D 5/16
, C25D 5/50
, C25D 5/56
, C25D 7/00
, G02F 1/1345
, H01R 4/02
, H05K 3/18
, H05K 3/24
FI (12件):
H01L 21/60 311 W
, C23C 18/52 B
, C23C 28/00 E
, C25D 5/10
, C25D 5/16
, C25D 5/50
, C25D 5/56 B
, C25D 7/00 J
, G02F 1/1345
, H01R 4/02 Z
, H05K 3/18 D
, H05K 3/24 D
Fターム (67件):
2H092GA50
, 2H092GA60
, 2H092MA11
, 2H092MA34
, 2H092NA15
, 2H092NA18
, 2H092NA27
, 2H092NA29
, 2H092PA06
, 4K022AA02
, 4K022AA15
, 4K022AA42
, 4K022BA21
, 4K022BA31
, 4K022BA35
, 4K022DA01
, 4K022EA01
, 4K024AA07
, 4K024AA09
, 4K024AB03
, 4K024AB04
, 4K024AB06
, 4K024AB08
, 4K024AB15
, 4K024AB17
, 4K024BA14
, 4K024BB11
, 4K024DB01
, 4K024DB10
, 4K024FA05
, 4K024GA14
, 4K024GA16
, 4K044AA16
, 4K044AB02
, 4K044BA06
, 4K044BA10
, 4K044BB04
, 4K044BB05
, 4K044BC08
, 4K044CA13
, 4K044CA15
, 4K044CA18
, 4K044CA62
, 5E085BB09
, 5E085BB26
, 5E085CC01
, 5E085DD01
, 5E085EE23
, 5E085JJ27
, 5E085JJ35
, 5E343AA18
, 5E343BB14
, 5E343BB18
, 5E343BB23
, 5E343BB24
, 5E343BB34
, 5E343BB54
, 5E343DD21
, 5E343DD23
, 5E343DD32
, 5E343DD76
, 5E343ER18
, 5E343GG03
, 5F044MM03
, 5F044MM04
, 5F044MM23
, 5F044MM48
引用特許:
前のページに戻る