特許
J-GLOBAL ID:200903016584090935

FPCの製造方法及び表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 林 敬之助
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-070654
公開番号(公開出願番号):特開2001-267376
出願日: 2000年03月14日
公開日(公表日): 2001年09月28日
要約:
【要約】【課題】スズメッキによるリード断線のない、また、半田工程でレジスト剥がれの発生しないの安価なFPC及び表示装置を実現する。【解決手段】パターニングされた銅パターン上に第一のスズメッキを形成し、その後レジストを形成し、レジストが形成されていない部分の銅パターン上に第二のスズメッキの加工を行う。このようなプロセスにより、安価なファインパターンのフレキシブル基板が実現できる。
請求項(抜粋):
50μm以下の厚みのポリイミドフィルムに銅を12μm以下の厚みに形成する工程と、前記銅をパターニングしてパターンを形成する工程と、前記パターン上に第一のスズメッキをする工程と、選択的にソルダーレジストを形成する工程と、第二のスズメッキをする工程と、を有することを特徴とするFPCの製造方法。
IPC (12件):
H01L 21/60 311 ,  C23C 18/52 ,  C23C 28/00 ,  C25D 5/10 ,  C25D 5/16 ,  C25D 5/50 ,  C25D 5/56 ,  C25D 7/00 ,  G02F 1/1345 ,  H01R 4/02 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/24
FI (12件):
H01L 21/60 311 W ,  C23C 18/52 B ,  C23C 28/00 E ,  C25D 5/10 ,  C25D 5/16 ,  C25D 5/50 ,  C25D 5/56 B ,  C25D 7/00 J ,  G02F 1/1345 ,  H01R 4/02 Z ,  H05K 3/18 D ,  H05K 3/24 D
Fターム (67件):
2H092GA50 ,  2H092GA60 ,  2H092MA11 ,  2H092MA34 ,  2H092NA15 ,  2H092NA18 ,  2H092NA27 ,  2H092NA29 ,  2H092PA06 ,  4K022AA02 ,  4K022AA15 ,  4K022AA42 ,  4K022BA21 ,  4K022BA31 ,  4K022BA35 ,  4K022DA01 ,  4K022EA01 ,  4K024AA07 ,  4K024AA09 ,  4K024AB03 ,  4K024AB04 ,  4K024AB06 ,  4K024AB08 ,  4K024AB15 ,  4K024AB17 ,  4K024BA14 ,  4K024BB11 ,  4K024DB01 ,  4K024DB10 ,  4K024FA05 ,  4K024GA14 ,  4K024GA16 ,  4K044AA16 ,  4K044AB02 ,  4K044BA06 ,  4K044BA10 ,  4K044BB04 ,  4K044BB05 ,  4K044BC08 ,  4K044CA13 ,  4K044CA15 ,  4K044CA18 ,  4K044CA62 ,  5E085BB09 ,  5E085BB26 ,  5E085CC01 ,  5E085DD01 ,  5E085EE23 ,  5E085JJ27 ,  5E085JJ35 ,  5E343AA18 ,  5E343BB14 ,  5E343BB18 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB34 ,  5E343BB54 ,  5E343DD21 ,  5E343DD23 ,  5E343DD32 ,  5E343DD76 ,  5E343ER18 ,  5E343GG03 ,  5F044MM03 ,  5F044MM04 ,  5F044MM23 ,  5F044MM48
引用特許:
審査官引用 (1件)

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