特許
J-GLOBAL ID：200903016593777900
高圧ガス充填装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 勝彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-159228
公開番号（公開出願番号）：特開2005-337439
出願日： 2004年05月28日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】充填時間の長時間化やオーバラン量を可及的に抑えて高い精度で高圧ガスをプリセット充填すること。【解決手段】ガスを予め所定の圧力で貯留した供給タンクに供給管路を介して接続された流量計測手段31、遮断弁6、流量調整弁5と、高圧ホースを介して接続された充填ノズルとを備え、被充填タンクと供給タンクとの差圧を利用してガスを充填するガス充填装置において、外部入力手段から入力されたプリセット量に充填する場合に、プリセット充填時における低流量での追充填のための流量調整弁5の弁開度の絞り動作開始のタイミングを、流量計測手段4により検出された瞬時流量に基づいて調整するスローダウン流量調整手段を備える。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
ガスを予め所定の圧力で貯留した供給タンクに供給管路を介して接続された流量計測手段、遮断弁、流量調整弁と、高圧ホースを介して接続された充填ノズルとを備え、被充填タンクと前記供給タンクとの差圧を利用してガスを充填するガス充填装置において、外部入力手段から入力されたプリセット量に充填する場合に、プリセット充填時における低流量での追充填のための前記流量調整弁の弁開度の絞り動作開始のタイミングを、前記流量計測手段により検出された瞬時流量に基づいて調整するスローダウン流量調整手段を備えた高圧ガス充填装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
3E072AA01
, 3E072DA05
, 3E072GA02
, 5H027AA02
, 5H027BA13
出願人引用 (3件)
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ガス充填装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-263712
出願人：株式会社タツノ・メカトロニクス
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ガス供給装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-329847
出願人：東邦瓦斯株式会社, トキコ株式会社
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ガス供給装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-107797
出願人：トキコ株式会社
審査官引用 (2件)
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ガス充填装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-263712
出願人：株式会社タツノ・メカトロニクス
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ガス供給装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-329847
出願人：東邦瓦斯株式会社, トキコ株式会社
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