特許

J-GLOBAL ID：200903016677123680

基板洗浄方法及び基板洗浄装置

発明者： 稲垣 靖史 ,  清水 峰夫 ,  藤谷 吉宏
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-240134
公開番号（公開出願番号）：特開2002-086084
出願日： 2000年08月08日
公開日（公表日）： 2002年03月26日
要約：

【要約】【課題】 均一安定な基板洗浄を可能とし、同時に省資源化、廃棄物低減化を可能とする。【解決手段】 弗化アンモニウム水溶液や弗化アンモニウム水溶液と弗化水素酸との混合液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、洗浄液の使用時間の経過とともに洗浄液に水、アンモニア、アンモニア水、弗化アンモニウム水溶液から選ばれる少なくとも1種を追加補充する。このとき、測定データに基づいて経過時間に応じた必要補充量を算出し、これを制御する。あるいは、洗浄液中の成分濃度を検出し、得られた結果に応じて追加補充するようにしても良い。

請求項（抜粋）：

弗化アンモニウム水溶液及び/又は弗化アンモニウム水溶液と弗化水素酸との混合液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、上記洗浄液の使用時間の経過とともに当該洗浄液に水、アンモニア、アンモニア水、弗化アンモニウム水溶液から選ばれる少なくとも1種を追加補充することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (5件)：

B08B 3/08 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306

FI (6件)：

B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/306 A ,  H01L 21/306 J

Fターム (17件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB44 ,  3B201BB04 ,  3B201BB05 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB96 ,  3B201CB01 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  5F043AA31 ,  5F043BB22 ,  5F043DD30 ,  5F043EE21 ,  5F043EE23 ,  5F043EE24

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ウエットプロセス装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-171230   出願人：深田純子

審査官引用 (1件)

• ウエットプロセス装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-171230   出願人：深田純子