ウエットプロセス装置及び方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福森久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-171230
公開番号（公開出願番号）：特開平9-022891
出願日： 1995年07月06日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：

【要約】【課題】エッチング、クリーニングを経時的にも均一に行うことが可能なウエットプロセス装置を提供すること。【解決手段】薬液組成タンクと組成調整用タンクの2つのタンクを備え、所定位置に設置された薬液槽に、組成調整用タンクから組成調整用薬液を供給することにより組成変化した該薬液槽中の薬液を所定の薬液組成に維持するようにしたことを特徴とする。特に、フッ化水素酸(HF)の濃度が0.1重量%以下であり、フッ化アンモニウム(NH4F)の濃度が30重量%以下とした場合には薬液の組成調整はほぼ純水のみで足りる。

請求項（抜粋）：

薬液組成タンクと組成調整用タンクの2つのタンクを備え、所定位置に設置された薬液槽に、組成調整用タンクから組成調整用薬液を供給することにより組成変化した該薬液槽中の薬液を所定の薬液組成に維持するようにしたことを特徴とするウエットプロセス装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , H01L 21/306 , H01L 21/308

FI (4件)：

H01L 21/304 341 T , H01L 21/304 341 L , H01L 21/308 G , H01L 21/306 J

引用特許：

審査官引用 (7件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-200234 出願人：新日本製鐵株式会社
特開平3-072626
液中異物付着防止溶液とそれを用いたエッチング方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-001908 出願人：株式会社日立製作所

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