低分子ラジカル供給方法、ラジカル運搬分子、重合体製造方法及び重合体

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：安富康男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-352475
公開番号（公開出願番号）：特開2003-147008
出願日： 2001年11月16日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】【課題】極安定パーフルオロアルキル系ラジカルからより低分子量のラジカルを放出した後、上記極安定パーフルオロアルキル系ラジカルを生成することよりなる低分子ラジカル供給方法を提供する。【解決手段】ラジカル運搬分子から極安定パーフルオロアルキル系ラジカルを生成させる極安定ラジカル生成反応と、前記極安定パーフルオロアルキル系ラジカルから低分子ラジカルを放出させるラジカル放出反応とよりなり、前記ラジカル運搬分子は、前記ラジカル放出反応により生成されることを特徴とする低分子ラジカル供給方法。

請求項（抜粋）：

ラジカル運搬分子から極安定パーフルオロアルキル系ラジカルを生成させる極安定ラジカル生成反応と、前記極安定パーフルオロアルキル系ラジカルから低分子ラジカルを放出させるラジカル放出反応とよりなり、前記ラジカル運搬分子は、前記ラジカル放出反応により生成されることを特徴とする低分子ラジカル供給方法。

IPC (5件)：

C08F 4/00 , C07B 51/00 , C07C 17/275 , C07C 22/08 , C07B 61/00 300

FI (5件)：

C08F 4/00 , C07B 51/00 G , C07C 17/275 , C07C 22/08 , C07B 61/00 300

Fターム (17件)：

4H006AA02 , 4H006AC23 , 4H006AC30 , 4H006AC80 , 4H006BA37 , 4H006BA53 , 4H006BA93 , 4H006BD33 , 4H006BD52 , 4H006BE53 , 4H006BE62 , 4H039CA19 , 4H039CA51 , 4H039CD10 , 4H039CF90 , 4J015EA06 , 4J015EA10

引用特許：

審査官引用 (6件)

含フッ素陰イオン界面活性剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-240745 出願人：株式会社ネオス
特開平1-126303
特公平1-029175

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