特許
J-GLOBAL ID：200903016768282837
複合体の生成
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
, 荒川 伸夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-545077
公開番号（公開出願番号）：特表2009-518535
出願日： 2006年12月12日
公開日（公表日）： 2009年05月07日
要約：
第1の化学物質および第2の化学物質を反応させて第1および第2の化学物質が互いに共有結合されている複合体を形成する方法は、第1の化学物質、第2の化学物質およびチオール発生剤を同時に接触させることを含み、チオール発生剤がチオール化反応において第1の化学物質と反応して、第1の化学物質上に遊離スルフヒドリル基の形成をもたらし、遊離スルフヒドリル基が第2の化学物質と反応して複合体を形成するものであり、また、第2の化学物質が、スルフヒドリル基との反応性に関して多価である。本発明は、主に、チオール発生剤と第1の化学物質との反応および第2の化学物質との反応の間に分離ステップを必要としないという点において先行技術と異なっている。また、本発明は、複合キットも提供する。
請求項（抜粋）：
第1の化学物質および第2の化学物質を反応させて、第1および第2の化学物質が互いに共有結合により結合されている複合体を形成する方法であって、第1の化学物質、第2の化学物質およびチオール発生剤を同時に接触させることを含み、チオール発生剤が、チオール化反応において第1の化学物質と反応して、第1の化学物質上に遊離スルフヒドリル基の形成をもたらし、遊離スルフヒドリル基が、第2の化学物質と反応して、複合体を形成するものであり、第2の化学物質が、スルフヒドリル基との反応性に関して多価である、形成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
4J030BA02
, 4J030BB03
, 4J030BB06
