特許

J-GLOBAL ID：200903016812862269

荷電粒子線照射装置、及び、これを用いた治療装置

発明者： 立川 敏樹 ,  澤田 憲司
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-212445
公開番号（公開出願番号）：特開2002-022900
出願日： 2000年07月13日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
要約：

【要約】【課題】 最終偏向電磁石が高磁場であっても、スキャニング照射により、平行照射野を実現可能とする。【解決手段】 走査電磁石24、26を複数設け、該複数の走査電磁石24、26によるキックの重ね合わせにより、最終偏向電磁石20の出側に、平行照射野が形成されるようにする。

請求項（抜粋）：

最終偏向電磁石の入側に設けた走査電磁石により、荷電粒子線を走査して照射野を拡大するようにした荷電粒子線照射装置において、前記走査電磁石を複数設け、該複数の走査電磁石によるキックの重ね合わせにより、前記最終偏向電磁石の出側に、平行照射野が形成されるようにしたことを特徴とする荷電粒子線照射装置。

IPC (3件)：

G21K 5/04 ,  A61N 5/10 ,  G21K 1/093

FI (4件)：

G21K 5/04 S ,  G21K 5/04 A ,  A61N 5/10 D ,  G21K 1/093 S

Fターム (3件)：

4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG13

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 放射線照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-272133   出願人：住友重機械工業株式会社
• 荷電粒子照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-074058   出願人：三菱電機株式会社