特許
J-GLOBAL ID：200903033836148860
荷電粒子照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-074058
公開番号（公開出願番号）：特開平10-263098
出願日： 1997年03月26日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：
【要約】【課題】 この発明は、所謂半影ボケが生じるようなことのない荷電粒子照射装置を得る。【解決手段】 ビーム1の軸21を中心としてそれぞれ回転可能な第1の偏向電磁石11aおよび第2の偏向電磁石11bが設けられており、第1の偏向電磁石11aおよび第2の偏向電磁石11bの励磁量を変化させて照射面5の所定の箇所にビームを照射する。
請求項（抜粋）：
加速器により加速されて取り出されたビームを第1の偏向電磁石および第2の偏向電磁石により偏向させて被照射部に照射する荷電粒子照射装置において、前記ビームの軸を中心としてそれぞれ回転可能な前記第1の偏向電磁石および前記第2の偏向電磁石が設けられており、前記第1の偏向電磁石および前記第2の偏向電磁石の励磁量を変化させて前記被照射部の所定の箇所にビームを照射するようになっている荷電粒子照射装置。
引用特許：
前のページに戻る
